Kosteneffiziente Abgasreinigung
in der Halbleiterindustrie
Kosteneffiziente Abgasreinigung
in der Halbleiterindustrie
Durch immer komplexere Produktionsprozesse in der Industrie steigen auch die Erwartungen an die Leistungsfähigkeit von Abgasreinigungsanlagen: Sie erfüllen im Optimalfall nicht nur die gesetzlichen Regelungen, sondern weisen auch eine vergleichsweise geringe Total Cost of Ownership (TCO) auf. Um diese Vorteile in der Praxis zu realisieren, müssen die eingesetzten Technologien präzise auf den jeweiligen Anwendungsfall abgestimmt sein. Ein Beispiel ist der Prozess der Silicium-Epitaxie: Hier liegen toxische, korrosive und brennbare Abgase vor, für die prinzipiell verschiedene Gasreinigungstechnologien wie thermische Behandlung, Nasswäsche oder Trockenbettabsorption in Frage kommen (Abbildung 1). Um bei derartig herausfordernden Prozessen mit vielen Chemikalien eine Lösung mit hoher Reinigungs- und Kosteneffizienz zu erhalten, sollten Gasreinigungsexperten hinzugezogen werden, die über Know-how in allen relevanten Verfahren verfügen und damit technologieoffen beraten können. So lässt sich die Anschaffung einer Anlage vermeiden, die zwar die gesetzlichen Anforderungen erfüllt, deren TCO jedoch deutlich höher liegt als mit einer präziser ausgewählten Technologie erzielbar gewesen wäre.
Der Weg zur richtigen Anlage: Präzise Abstimmung auf Anwendungsfall
gewährleistet Lösung mit niedrigstmöglicher Total Cost of Ownership
Komplexe Prozesse wie Silicium-Epitaxie erfordern technologieoffene Beratung
Autor: Dr. Dani Muse, Blaubeuren
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